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・TC0051_岡野の化学（５１）
EUV露光技術：7nmノード以降の微細化ロードマップ
予測
・7nm世代：2018年に量産開始し、2019年～2020年には量産が本格化
・5nm世代：2021年までには少量の生産開始、本格的な量産開始時期は2022年～2023年
・3nm世代：予測困難
分解能を高める（解像可能な寸法を短くする＝微細化の）ための手段
- k1を下げる（0.25以下にはできない）
- 波長を短くする
- 開口数を上げる
露光の解像度
- 光源の波長に比例し、光学系の開口数に反比例するため、波長が短くなるか、NA（開口数）が大きく（高く）なると、解像度は向上する。
- パターニング可能な最小寸法(ハーフピッチ)が短くなる。
- レジストの性能や重ね合わせ誤差などに関連した比例係数(プロセス係数)が存在し、比例係数を小さくすることによっても、解像度は高まる。
- EUV露光技術では、光源の波長は5nmであり、これは基本的に動かせず、固定.。
- プロセス係数(k1)の限界値は25。
- となると、解像度の向上のためには、高NA化が求められる。
- ASML社はEUV光学系の開口数を現在の0.33から将来は0.50を超える値に高めることで、5nm世代と3nm世代のロジック量産を可能にするというロードマップを描いている。
レイリーの分解能（Rayleigh’s Equation）
R＝k1 x λ/NA
R（resolution）：解像度（分解能）
k1：比例係数。レジストの解像性能や波長（λ）と開口数（NA）以外の光学系の特性に依存する定数で、理想限界値は0.25
λ：波長
NA：開口数
＊開口数（numerical aperture, NA）：レンズの分解能を求めるための指標。
開口数の値が大きい方が明るさを取り込めるため、基本的には値が大きい方がいい。
開口数 NA は、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度を θ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率を n （レンズの屈折率ではない）として、次の式で表される。
ＮＡ＝Ｎsin θ
参考URL：
https://pc.watch.impress.co.jp/docs/column/semicon/1050712.html
https://staticwww.asml.com/doclib/investor/presentations/2017/asml_20170322_2017-03-22_BAML_Taiwan.pdf
https://ja.wikipedia.org/wiki/%E9%96%8B%E5%8F%A3%E6%95%B0
https://www.americabu.com/asml
http://eetimes.jp/ee/articles/1709/14/news036.html